← Главная новостей | Торговый зал
2026-11-04 · Источник：Tom's Hardware
Лидер рынка EUV-сканеров двигает свои лазерно-плазменные источники света к 1,000W и проявляет мало интереса к технологии свободных электронных лазеров на базе ускорителей частиц, которую поддерживает Elon Musk.
ASML удваивает ставку на лазерную плазму (LPP) как источник света для своих EUV-литографических сканеров, подталкивая развитие технологии к системам класса 1,000W, сообщает Tom's Hardware. Компания продолжает продвигаться со своими LPP EUV-источниками, и тот импульс — ключевая причина, по которой она проявляет почти нулевой интерес к альтернативному подходу: источникам свободных электронных лазеров (FEL) на базе ускорителей частиц для чиподелательных инструментов.
Концепция FEL не обделена громкой поддержкой. Elon Musk бросил свой вес за метод генерации крайнего ультрафиолета на базе ускорителей частиц — того света, на который EUV-сканеры опираются, чтобы рисовать чипы. Но на фоне продвижения собственных плазменных источников ASML, как указывает обзор, компания видит мало причин перепроектировать инструменты вокруг ускорительной технологии, — позиция, фактически отодвигающая FEL-опцию на обочину доминирующей литографической дорожной карты индустрии.
Для чипмейкеров источник света — критичный рычаг продуктивности сканера: большая мощность источника обычно переводится в больше пригодного EUV-света и большую пропускную способность на инструмент. Приверженность ASML системам LPP на 1,000W потому сигнализирует об уверенности, что продолжение инженерной работы над существующей архитектурой может и дальше приносить тот прирост, — а не о разрушительном скачке к принципиально иному способу генерации света. Тот расчёт важен для фабов, планирующих мощности вокруг EUV-техпроцессов.
Отсечение оставляет ускорительную концепцию без одобрения, которое значило бы больше всего: принятия самим ведущим производителем EUV-сканеров. Пока сторонники FEL не продемонстрируют преимуществ, перевешивающих зрелость LPP-дорожной карты ASML, технологии, похоже, суждено оставаться вне мейнстримной чиподелательной цепочки инструментов на обозримом будущем. Пока что сканеры ASML продолжат черпать свет из лазерной плазмы — при стабильно растущих уровнях мощности.
Теги: ASML · Elon Musk · EUV Lithography · Laser-Produced Plasma · Free Electron Laser
萬安算交所 AIXX · AIXX · Верифицированная биржа · В торговый зал